Tetracloruro de hafnio | Po HFCL4 | CAS 13499-05-3 | Prezo da fábrica

Descrición curta:

O tetracloruro de hafnio ten importantes aplicacións como precursor do óxido de hafnio, catalizador de síntese orgánica, aplicacións nucleares e deposición de películas finas, destacando a súa versatilidade e importancia en diversos campos tecnolóxicos.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Envíenos un correo electrónico

Detalle do produto

Etiquetas de produto

Descrición do produto

Breve introdución

Nome do produto: tetracloruro de hafnio
CAS Nº: 13499-05-3
Fórmula composta: HFCL4
Peso molecular: 320,3
Aspecto: po branco

Especificación

Elemento	Especificación
Aparición	Po branco
HFCL4+ZRCL4	≥99,9%
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Aplicación

Precursor de dióxido de hafnio: O tetracloruro de hafnio úsase principalmente como precursor para producir dióxido de hafnio (HFO2), un material con excelentes propiedades dieléctricas. O HFO2 é amplamente utilizado en aplicacións dieléctricas de alto K para transistores e condensadores na industria de semicondutores. O HFCL4 é esencial na fabricación de dispositivos electrónicos avanzados debido á súa capacidade para formar películas finas de dióxido de hafnio.
Catalizador de síntese orgánica: O tetracloruro de hafnio pode usarse como catalizador para diversas reaccións de síntese orgánica, especialmente a polimerización de olefinas. As súas propiedades de ácido de Lewis axudan a formar intermedios activos, mellorando así a eficiencia das reaccións químicas. Esta aplicación é valiosa na produción de polímeros e outros compostos orgánicos na industria química.
Aplicación nuclear: Debido á súa sección transversal de absorción de neutróns elevada, o tetracloruro de hafnio é amplamente utilizado en aplicacións nucleares, especialmente en barras de control de reactores nucleares. O hafnium pode absorber eficazmente os neutrones, polo que é un material adecuado para regular o proceso de fisión, o que axuda a mellorar a seguridade e a eficiencia da xeración de enerxía nuclear.
Deposición de películas finas: O tetracloruro de hafnio úsase en procesos de deposición de vapor químico (CVD) para formar películas finas de materiais a base de hafnio. Estas películas son esenciais nunha variedade de aplicacións, incluíndo microelectrónica, óptica e revestimentos de protección. A capacidade de depositar películas uniformes e de alta calidade fai que HFCL4 sexa valioso nos procesos de fabricación avanzados.