Tetracloruro de hafnio | HfCl4 en po | CAS 13499-05-3 | prezo de fábrica

Descrición curta:

O tetracloruro de hafnio ten importantes aplicacións como precursor do óxido de hafnio, catalizador para a síntese orgánica, aplicacións nucleares e deposición de películas finas, o que destaca a súa versatilidade e importancia en diversos campos tecnolóxicos.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Envíanos un correo electrónico

Detalle do produto

Etiquetas do produto

Descrición do produto

Breve introdución

Nome do produto: tetracloruro de hafnio
Nº CAS: 13499-05-3
Fórmula do composto: HfCl4
Peso molecular: 320,3
Aspecto: Po branco

Especificación

Elemento	Especificación
Aparencia	Po branco
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Aplicación

Precursor do dióxido de hafnioO tetracloruro de hafnio utilízase principalmente como precursor para producir dióxido de hafnio (HfO2), un material con excelentes propiedades dieléctricas. O HfO2 úsase amplamente en aplicacións dieléctricas de alta k para transistores e condensadores na industria dos semicondutores. O HfCl4 é esencial na fabricación de dispositivos electrónicos avanzados debido á súa capacidade para formar películas finas de dióxido de hafnio.
catalizador de síntese orgánicaO tetracloruro de hafnio pódese empregar como catalizador para diversas reaccións de síntese orgánica, especialmente a polimerización de olefinas. As súas propiedades de ácido de Lewis axudan a formar intermediarios activos, mellorando así a eficiencia das reaccións químicas. Esta aplicación é valiosa na produción de polímeros e outros compostos orgánicos na industria química.
Aplicación nuclearDebido á súa alta sección transversal de absorción de neutróns, o tetracloruro de hafnio úsase amplamente en aplicacións nucleares, especialmente nas barras de control dos reactores nucleares. O hafnio pode absorber neutróns eficazmente, polo que é un material axeitado para regular o proceso de fisión, o que axuda a mellorar a seguridade e a eficiencia da xeración de enerxía nuclear.
Deposición de película finaO tetracloruro de hafnio utilízase en procesos de deposición química de vapor (CVD) para formar películas finas de materiais a base de hafnio. Estas películas son esenciais nunha variedade de aplicacións, incluíndo a microelectrónica, a óptica e os revestimentos protectores. A capacidade de depositar películas uniformes e de alta calidade fai que o HfCl4 sexa valioso en procesos de fabricación avanzados.